实验室高真空箱   VCD高真空箱性能

VCD高真空箱是一种用于实现高真空环境的设备，常用于科研实验、材料处理、电子元件制造等领域。它具有以下性能特点：1. 高真空度：VCD高真空箱能够提供非常高的真空度，通常可达到10^-6或更高的级别。这种高真空环境能够有效去除气体和杂质，为实验或处理提供干净的环境。

2. 密封：VCD高真空箱具有良好的密封性能，能够有效防止气体泄漏和杂质进入。它通常采用优质的密封材料和设计，确保箱体的密封性能。

3. 稳定性和均匀性：VCD高真空箱具有较好的温度和压力稳定性，能够在设定的高真空条件下保持稳定状态。同时，它还能够提供均匀的高真空环境，确保样品或处理物体在整个空间内获得一致的处理效果。

4. 控制系统：VCD高真空箱配备先进的控制系统，能够实现对真空度、温度、压力等参数的精确控制和调节。操作人员可以根据实际需求设置合适的参数，以实现所需的处理效果。

5. 安全性：VCD高真空箱通常具有多重安全保护装置，如过压保护、过温保护、漏电保护等，确保设备和操作人员的安全。

需要注意的是，使用VCD高真空箱时，应严格按照操作规程进行操作，并定期进行设备维护和保养，以确保设备的正常运行和安全性。

一、简介：VCD高真空箱主要应用于航空、航天、军事、电子、通讯、光电等科研及生产单位。集公司多年在真空设备成功经验，通过不断潜心研究，突破传统技术创造性解决了精密高真空设备的控制难点，能精准控制133Pa以下的真空度。

二、主要技术指标：

规格型号： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

内箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范围： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空计显示或PLC触摸屏控制

结构： 一体式结构（内置真空泵）或分体式（外置真空泵）

内箱材质： SUS304#不锈钢

外箱材质： SECC钢板高级烤漆处理

使用电源： AC 单相 三线 220V 50HZ或AC 三相 五线 380V 50HZ

选加功能： 加热功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另购（可用户自备）

VCD高真空箱具有许多好处和优势，以下是其中几个主要的：1. 提供高品质的研究环境：VCD高真空箱能够提供非常高的真空度，可以有效去除气体和杂质，为科研实验提供干净的环境。高真空环境能够减少或消除外界因素对实验的干扰，提高实验的准确性和重复性。

2. 保护材料和样品：高真空环境可以有效防止材料的氧化、腐蚀和污染，保护样品的完整性和质量。它也可以防止外界湿度和气体对材料的影响，延长材料的寿命。

3. 实现特殊处理：VCD高真空箱具有稳定的温度和压力控制系统，可以实现对材料的特殊处理，如高温处理、热处理、薄膜沉积等。这些处理可以改变材料的物理和化学性质，从而获得特殊的性能和特性。

4. 广泛的应用领域：VCD高真空箱在科学研究、材料科学、电子元件制造、光学器件制造等领域有着广泛的应用。它可以用于研究新材料的性质和应用、制备薄膜和纳米结构、进行表面处理和清洗等。

5. 安全和可靠：VCD高真空箱通常具有多重安全保护装置，如过压保护、过温保护、漏电保护等，确保设备和操作人员的安全。它也具有稳定的性能和可靠的操作系统，能够长时间稳定运行。

总的来说，VCD高真空箱能够提供高真空环境，为科研实验和材料处理提供良好的条件，具有广泛的应用领域和许多好处。