HE- WDN2-125真空充氮烤箱适用于哪些产品?
真空充氮烤箱,作为一种先进的热处理设备,其工作原理与广泛的应用领域,在现代工业生产中占据着举足轻重的地位。该设备通过创建一个低氧甚至无氧的环境,利用氮气作为保护气体,有效避免了产品在高温处理过程中因氧化而导致的品质下降、颜色变化及性能损失。下面,我们将深入探讨真空充氮烤箱适用于哪些类型的产品,以及它在这些产品加工中的重要作用。
一、电子元器件
在电子元器件制造业中,真空充氮烤箱的应用极为广泛。电子元器件如集成电路、电容器、电阻器等,在制造过程中往往需要经历高温烘烤以去除内部湿气、挥发物及改善材料性能。然而,这些精密元件对氧气极为敏感,一旦暴露在高温有氧环境中,极易发生氧化反应,导致性能下降甚至失效。因此,采用真空充氮烤箱进行烘烤处理,能够确保元器件在纯净的氮气环境中完成热处理,有效防止氧化,保证产品质量。
二、金属材料与合金
金属材料与合金的退火、淬火、回火等热处理工艺中,真空充氮烤箱同样发挥着不可替代的作用。对于某些特殊金属材料,如钛合金、不锈钢等,在高温处理时极易与空气中的氧气发生反应,生成氧化物层,影响材料的表面光洁度和后续加工性能。通过真空充氮烤箱处理,可以创造一个无氧或低氧环境,有效防止氧化反应的发生,使金属材料在热处理后仍保持优良的物理性能和表面质量。
三、食品与药品包装
在食品与药品行业中,真空充氮包装技术已得到广泛应用,而真空充氮烤箱则是这一技术实现的关键设备之一。食品与药品在包装前,通过真空充氮烤箱进行烘烤处理,可以去除包装材料内的水分和挥发性杂质,提高包装材料的密封性和阻隔性。同时,在氮气保护下,还可以有效抑制微生物的生长,延长食品与药品的保质期。此外,对于某些需要保持特定颜色和风味的食品,真空充氮烤箱还能减少因高温氧化而导致的品质变化。
四、光学材料与镜片
光学材料与镜片对表面质量要求,任何微小的瑕疵都可能影响其光学性能。在制造过程中,这些材料往往需要经过清洗、烘干等步骤。传统的高温烘烤方法容易使材料表面氧化,影响透光性和清晰度。而真空充氮烤箱则能在无氧环境下进行烘烤,避免氧化问题,同时通过精确控制温度和时间,确保材料表面干燥且光洁度达到要求。
五、精密仪器与零部件
精密仪器与零部件,如精密轴承、光学仪器部件等,对加工精度和表面质量有着的要求。这些产品在制造过程中需要经过多道工序,高温有氧环境容易对精密零部件造成氧化损伤,影响其精度和使用寿命。采用真空充氮烤箱进行热处理,可以有效避免这一问题,保证零部件在高温处理后的尺寸稳定性和表面质量。
六、其他应用领域
除了上述领域外,真空充氮烤箱还广泛应用于航空航天、汽车制造、新能源材料等多个行业。在航空航天领域,它用于处理对氧化极为敏感的航天器部件;在汽车制造中,则用于提升汽车零部件的耐腐蚀性和耐久性;在新能源材料领域,如锂离子电池的生产中,真空充氮烤箱也发挥着关键作用,确保电池材料在热处理过程中不受氧化影响,提高电池的性能和安全性。
七、真空充氮烤箱的技术参数
规格型号: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
内箱尺寸(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
总功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用电源: AC 单相 三线 220V 50HZ AC 三相 五线 380V 50HZ
温度偏差: ±3% ±5% ±8%
真空泵: 4升 8升
温度范围(选择):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空度范围: 0~-100KPa
控制方式: 按键式控制或PLC触摸屏控制
结构: 一体式结构(内置真空泵)或分体式(外置真空泵)
内箱材质: SUS304#不锈钢
外箱材质: SECC钢板高级烤漆处理
充氮气装置: 1)氮气压力范围:3~4Kg左右;
2)流量计:量程为10L/min-100Lmin;
3)气管配置:∮8mm气管快插口;
4)充氮控制方式:采用时间自动控制或手动控制;
5)排气阀:充氮气的同时打开排气阀,防止箱内高压;
6)氮气:氮气源用户自备。
综上所述,真空充氮烤箱以其优势在多个工业领域得到了广泛应用。无论是电子元器件、金属材料与合金、食品与药品包装,还是光学材料与镜片、精密仪器与零部件等,真空充氮烤箱都以其出色的防氧化能力和精确的温度控制,为产品的高质量生产提供了有力保障。随着科技的不断进步和工业生产的不断发展,真空充氮烤箱的应用前景将更加广阔。