HE-WD3-144L多箱式真空烘箱,真空烤箱
豪恩系列多箱式真空烤箱广泛应用与电池、芯片、PCB板、生物化学、化工制药、五金塑胶、粉末等生产线产品快速干燥烘烤使用,及干燥热敏性、易分解、易氧化物质和复杂成分物品快速高效的干燥处理。它不仅集成了高温加热、真空环境控制以及多箱体独立操作等先进技术,还通过智能化的管理系统,实现了对复杂工艺流程的精准把控,极大地提升了工作效率与产品质量。
一、多箱式真空烤箱的工作原理与优势
多箱式真空烤箱的核心在于其真空环境构建与精确的温度控制系统。通过内置的真空泵系统,烤箱内部能够迅速达到并维持一定的真空度,有效降低了物质中水分或其他挥发性组分的沸点,从而实现在较低温度下快速且高效地干燥或热处理。这一过程不仅避免了高温对物料性质的破坏,还极大地缩短了处理时间,提高了生产效率。
与此同时,多箱体的设计使得该设备能够同时处理不同批次或不同工艺要求的物料,每个箱体均可独立设置温度、真空度及工作时间等参数,互不干扰,极大地提高了设备的灵活性与适用性。对于需要批量处理且对工艺条件要求严格的领域,如医药、化工、电子材料、航空航天等,多箱式真空烤箱无疑是理想的选择。
二、精准温控与智能化管理
多箱式真空烤箱的温控系统采用了先进的PID算法,结合高精度传感器,能够实现对烤箱内部温度的精确控制,误差范围极小。无论是需要恒温保持的长时间热处理,还是需要精确控温的复杂工艺过程,都能得到满意的效果。此外,智能化的管理系统使得操作更加简便,用户只需通过触摸屏或远程控制系统设置好工艺参数,设备即可自动完成整个处理过程,并实时显示温度、真空度等关键数据,方便用户监控与调整。
三、广泛的应用领域
1. 医药行业:在药品研发与生产过程中,多箱式真空烤箱常被用于原料药、中间体及成品的干燥、灭菌等处理,确保产品质量的稳定性与安全性。
2. 化工领域:对于高分子材料、催化剂、颜料等化工产品的干燥与热处理,多箱式真空烤箱能够提供均匀的加热环境与可控的真空条件,有效改善产品性能。
3. 电子材料:在半导体、集成电路等精密电子元件的生产过程中,多箱式真空烤箱用于去除材料表面的水分与杂质,保证产品的纯净度与可靠性。
4. 航空航天:对于轻质高强度材料、复合材料及涂层等关键部件的热处理与干燥,多箱式真空烤箱的精确控温与高效性能至关重要。
四、技术参数
规格型号: HE-WD2-216L HE-WD3-144L HE-WD4-135L
工作腔体: 2个 3个 4个
内腔尺寸: 800×600×450mm×(2) 800×600×300mm×(3) 500×600×450mm×(4)
外形尺寸约: 1100×900×1750(mm) 1380×900×1700(mm) 1450×900×1750(mm)
温度范围:
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
温度偏差: ±5%
真空度范围: 0~-100KPa
控制方式: 按键式控制或PLC触摸屏控制
内箱材质: SUS304#不锈钢
外箱材质: SECC钢板高级烤漆处理
结构: 一体式结构(内置真空泵)或分体式(外置真空泵)
使用电源: AC 三相 五线 380V 50/60HZ
选装功能: 充氮装置