三箱式高低温冲击测试箱 温度循环冲击试验机
冷热冲击试验箱
用途
用于电子电器零组件、自动化零部件、通讯组件、汽车配件、金属、塑胶等行业，国防工业、航天、兵工业、电子芯片IC、 半导体陶瓷及高分子材料之物理性变化,测试其材料对高、低温的反复抵拉力及产品于热胀冷缩产出的化学变化或物理伤害，可确认产品的品质,从精密的IC到重机械的组件，无一不需要它的理想测试工具。
满足标准
GB 10589-89、GB 10592-89、GB 11158-89、GB/T 5170.2-1996、GB 2423.1-89、GB 2423.2-89、GB 2424.1-89、GJB 150.5-86、QC/T 17-92、IEA 364-32、IEC 68-2-14等。
主要技术参数
容量 | 内箱尺寸（cm） | 外形尺寸（cm） | 型号 | 温度范围℃ | 总功率 | 降温时间 | 升温时间 | ||
27升(两箱) |
30×30×30 |
120×180×110 | HE-LR-27S | -40～+150 | 18KW | -55℃ | 60min |
150℃ |
30min |
HE-LR-27W | -55～+150 | 19KW | -65℃ | 70min | |||||
HE-LR-27L | -65～+150 | 20KW | -75℃ | 80min | |||||
50升 |
36×35×40 |
156×157×144 | HE-LR-50S | -40～+150 | 20KW | -55℃ | 70min |
150℃ |
30min |
HE-LR-50W | -55～+150 | 21KW | -65℃ | 80min | |||||
HE-LR-50L | -65～+150 | 22KW | -75℃ | 90min | |||||
80升 |
50×40×40 |
170×180×144 | HE-LR-80S | -40～+150 | 21KW | -55℃ | 70min |
150℃ |
40min |
HE-LR-80W | -55～+150 | 22KW | -65℃ | 80min | |||||
HE-LR-80L | -65～+150 | 23KW | -75℃ | 90min | |||||
100升 |
60×40×40 |
180×180×144 | HE-LR-100S | -40～+150 | 22KW | -55℃ | 80min |
150℃ |
40min |
HE-LR-100W | -55～+150 | 23KW | -65℃ | 90min | |||||
HE-LR-100L | -65～+150 | 25KW | -75℃ | 100min | |||||
150升 |
60×50×50 |
180×190×154 | HE-LR-150S | -40～+150 | 28KW | -55℃ | 80min |
150℃ |
40min |
HE-LR-150W | -55～+150 | 35KW | -65℃ | 100min | |||||
HE-LR-150L | -65～+150 | 45KW | -75℃ | 100min | |||||
250升 |
70×50×50 |
190×200×164 | HE-LR-250S | -40～+150 | 30KW | -55℃ | 80min |
150℃ |
40min |
HE-LR-250W | -55～+150 | 40KW | -65℃ | 110min | |||||
HE-LR-250L | -65～+150 | 50KW | -75℃ | 120min | |||||
高温槽温度范围 | +60℃～+200℃ | ||||||||
温度波动度 | ±2.0℃ | ||||||||
温度转换时间 | 10S | ||||||||
温度稳定时间 | 3～5min（常温～zui低温度，常温～zui高温度） | ||||||||
内箱材质 | SUS304镜面不锈钢 | ||||||||
外箱材质 | SUS201纱面不锈钢或电解钢板喷塑处理 | ||||||||
冷冻系统 | 冷冻机组为复叠式，压缩机（进口法国泰康或进口德国比泽尔），R404A、R23环保冷媒 | ||||||||
冷却方式 | 水冷或风冷（可选择） | ||||||||
控制器系统 | 可程控彩色触摸式温度控制器（TEIP880S或OYO8226） | ||||||||
标配 | 测试1个，样品架2个 | ||||||||
使用电源 | AC 三相 五线 380V 50HZ | ||||||||
保护装置 | 无熔丝开关，压缩机过载保护，超温保护，风机过载保护，保险丝 | ||||||||
联机软件 | R232、485或USB接口 | ||||||||
